삼성전자 반도체 생산라인을 복제한 반도체 공장을 중국에 설립하려 한 전임 삼성전자 임원이 구속돼 충격을 주고 있다.

수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부는 지난 12일 삼성전자 반도체 공장을 그대로 복사해 중국에 설립하려 한 삼성전자 前 상무 A씨(65)를 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법위반(영업 비밀국외 누설) 혐의로 구속 기소했다.

또한 A씨가 세운 중국 반도체 제조 업체 직원 등 5명과 공장 설계 도면을 빼돌린 삼성전자 협력업체 1명 등도 부정경쟁방지법위반 혐의로 불구속 기소했다.

검찰의 발표에 따르면 A씨는 지난 2018년 8월부터 2019년까지 삼성전자의 영업비밀인 반도체 공장 BED(Basic Engineering Data)와 공정 배치도, 설계도면 등을 부정 취득·부정 사용한 혐의를 받는다.

A씨가 빼돌린 정보들은 30나노 이하급 D램 및 낸드플레시를 제조하는 핵심정보들이다. A씨는 이를 통해 삼성전자 중국에서 거액을 투자받아 삼성전자 시안 반도체 공장에서 불과 1.5km 떨어진 거리에 복제판 공장을 건설하려 했다. 그러나 대만 전자기업과 체결했던 8조원 투자 약정이 불발되면서 실제 공장설립까지는 이어지지 않았다.

다만 A씨는 중국 청두시로부터 4600억원을 투자 받아 만든 제조공장이 지난해 연구개발동을 완공해 삼성전자 반도체 기술이 적용된 반도체 시제품을 생산한 것으로 알려졌다.

A씨는 삼성전자 상무를 거쳐 SK하이닉스 부사장을 지내는 등 국내 반도체 산업에서 입지를 다진 인물로, 퇴임 후 중국에 반도체 제조 공장을 설립해 삼성전자와 SK하이닉스 출신 인력 200여명을 고용한 바있다.

이러한 과정에서 A씨는 직원들에게 삼성전자 반도체 설계 자료 등을 입수해 활용할 것을 지시했고, 직원들은 지시에 따라 범행에 가담한 것으로 조사됐다. 검찰은 이번 기술 유출로 삼성전자가 최소 3000억원의 피해를 입은 것으로 추산했다.

반도체 업계에서는 A씨가 삼성전자의 공장을 복제한 공장 건설이 현실화됐을 경우 삼성전자의 피해금액은 수조원 규모였을 것이라고 우려를 표했다.

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