[그린포스트코리아 홍민영 기자] 삼성전자가 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야의 연구개발(R&D) 및 생산기술 확충에 133조원을 투자하고 1만5000명을 채용하기로 했다. 

아울러 국내 중소 반도체 업체들과의 상생 협력을 통해 산업 생태계를 강화하고 ‘신성장 동력 발굴’과 ‘동반 성장’을 동시에 추진하겠다고 밝혔다.

삼성전자는 24일 이 같은 내용이 담긴 ‘반도체 비전 2030’을 발표했다. 이에 따르면 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 오는 2030년까지 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 각각 투자할 방침이다.

이를 통해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력을 양성하고 생산시설도 확충하겠다는 방안이다.

또 향후 화성캠퍼스 신규 EUV(극자외선)라인을 활용해 생산량을 늘리고 국내 신규 라인에 투자하며, 시스템 반도체 R&D 및 제조 부문에서 전문인력 1만5000명을 고용할 계획이다. 삼성전자는 “이같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고 생산량이 증가해 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것”이라고 내다봤다.

국내 중소 팹리스(반도체 설계 전문업체)를 지원하는 등 상생협력에도 힘을 쏟는다.

인터페이스 IP(설계자산), 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한 IP를 지원한다. 또 보다 효율적인 제품 개발을 위해 삼성전자의 설계‧불량 분석 툴 및 소프트웨어도 지원할 계획이다.

반도채 위탁생산 물량 기준도 완화하고 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer) 프로그램을 공정 당 연 2~3회로 확대 운영한다. 아울러 국내 디자인하우스 업체와의 외주 협력도 확대해 나갈 방침이다. 

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